ASML et Intel Foundry s'associent sur la lithographie haute résolution EUV
ASML a annoncé le 8 septembre 2026 une collaboration avec Intel Foundry visant à accélérer la préparation du secteur à la lithographie High-NA EUV.
Une collaboration autour de la lithographie High-NA EUV
ASML a noué le 8 septembre 2026 une collaboration avec Intel Foundry portant sur la préparation du secteur à la technologie de lithographie High-NA EUV. Les deux entités sont associées dans cette démarche, présentée sur le site de l'entreprise.